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膜厚測(cè)量?jī)x韓國(guó)微先鋒XRF-2000L型

韓國(guó)微先鋒XRF-2000系列型號(hào)均已升級(jí)XRF-2020

功能及應(yīng)用:快速無(wú)損測(cè)量電鍍層厚度

可測(cè)單鍍層，雙鍍層，多鍍層及合金鍍層

儀器規(guī)格

XRF-2020L型:測(cè)量樣品長(zhǎng)寬55cm,高3cm:臺(tái)面載重3kg

XRF-2020H型:測(cè)量樣品長(zhǎng)寬55cm,高10cm:臺(tái)載重5kg

儀器全自動(dòng)臺(tái)面,自動(dòng)雷射對(duì)焦,多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量

多個(gè)準(zhǔn)直器可選擇：0.1mm,0.2mm,0.3mm,0.4mm,0.03*0.5mm

可配多個(gè)或單個(gè)準(zhǔn)直器,準(zhǔn)直器大小可自動(dòng)切換

Microp XRF-2020測(cè)厚儀(韓國(guó)微先鋒）

快速無(wú)損測(cè)量鍍金，鍍銀，鍍錫，鍍銀，鍍鎳，鍍銅，鍍鋅鎳合金等！

測(cè)量原理：

物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。

功能及應(yīng)用:快速無(wú)損測(cè)量電鍍層厚度

可測(cè)單鍍層，雙鍍層，多鍍層及合金鍍層

MicroP XRF-2020韓國(guó)測(cè)厚儀

鍍銀測(cè)量范圍0.1-50um

鍍鎳測(cè)量范圍0.5-30um

鍍銅測(cè)量范圍0.5-30um

鍍錫測(cè)量范圍0.5-50um

鍍金測(cè)量范圍0.02-6um

鍍鋅測(cè)量范圍1-30um

鋅鎳合金測(cè)量范圍1-25um

鍍鉻測(cè)量范圍0.5-25um

膜厚測(cè)量?jī)x韓國(guó)微先鋒XRF-2000L型號(hào)已升級(jí)至XRF-2020系列